SK하이닉스의 차세대 반도체 핵심 기술이 중국으로 유출된 충격적인 사건이 법원의 최종 판단을 받았습니다. 협력사 부사장 A씨는 하이케이메탈게이트(HKMG) 공정 등 첨단 기술을 2018년부터 중국 경쟁업체에 넘긴 혐의로 징역 1년 6개월의 실형이 확정됐죠. 이 기술은 D램의 속도를 높이고 전력 소모를 줄이는 혁신적인 반도체 제조법으로, 업계의 미래를 좌우할 정도로 중요합니다. 함께 기소된 직원들도 실형 또는 집행유예를 받았고, 법인에는 10억 원의 벌금이 내려졌습니다. 과연 이 기술 유출이 국내 반도체 산업과 글로벌 경쟁 구도에 어떤 파장을 일으킬지, 그 뒷이야기가 궁금하지 않으신가요? 이후의 이야기가 궁금하다면, 아래 '자세히 보기'를 눌러보세요!